鈦靶材具有純度高、密度高、組織結(jié)構(gòu)優(yōu)良、使用壽命長(zhǎng)的特點(diǎn)，廣泛應(yīng)用于電子、五金、鐘表、眼鏡、首飾、刀具、模具、玩具、廚具、器皿、機(jī)械、真空鍍膜等領(lǐng)域。有關(guān)靶材的三種常見(jiàn)性能表述，凱澤金屬整理如下：
1、純度
純度是靶材的主要性能指標(biāo)之一，因?yàn)榘胁牡募兌葘?duì)薄膜的性能影響很大。不過(guò)在實(shí)際應(yīng)用中，對(duì)靶材的純度要求也不盡相同。例如，隨著微電子行業(yè)的迅速發(fā)展，硅片尺寸由6”, 8“發(fā)展到12”, 而布線(xiàn)寬度由0.5um減小到0.25um,0.18um甚至0.13um，以前99.995%的靶材純度可以滿(mǎn)足0.35umIC的工藝要求，而制備0.18um線(xiàn)條對(duì)靶材純度則要求99.999%甚至99.9999%。
2、雜質(zhì)含量
靶材固體中的雜質(zhì)和氣孔中的氧氣和水氣是沉積薄膜的主要污染源。不同用途的靶材對(duì)不同雜質(zhì)含量的要求也不同。例如，半導(dǎo)體工業(yè)用的純鋁及鋁合金靶材，對(duì)堿金屬含量和放射性元素含量都有特殊要求。
3、密度
為了減少鈦靶材固體中的氣孔，提高濺射薄膜的性能，通常要求靶材具有較高的密度。靶材的密度不僅影響濺射速率，還影響著薄膜的電學(xué)和光學(xué)性能。靶材密度越高，薄膜的性能越好。此外，提高靶材的密度和強(qiáng)度使靶材能更好地承受濺射過(guò)程中的熱應(yīng)力。密度也是靶材的關(guān)鍵性能指標(biāo)之一。
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