鋯靶材主要應(yīng)用于電子及信息產(chǎn)業(yè)，如集成電路、信息存儲(chǔ)、液晶顯示屏、激光存儲(chǔ)器、電子控制器件等;亦可應(yīng)用于玻璃鍍膜領(lǐng)域;還可以應(yīng)用于耐磨材料、高溫耐蝕、高檔裝飾用品等行業(yè)。
分類(lèi)：
形狀可分為長(zhǎng)靶，方靶，圓靶，異型靶
成份可分為金屬靶材、合金靶材、陶瓷化合物靶材
應(yīng)用領(lǐng)域分為微電子靶材、磁記錄靶材、光碟靶材、貴金屬靶材、薄膜電阻靶材、導(dǎo)電膜靶材、表面改性靶材、光罩層靶材、裝飾層靶材、電極靶材、封裝靶材、其他靶材。
凱澤金屬常規(guī)靶材產(chǎn)品見(jiàn)下表;
| 產(chǎn)品名稱(chēng) | 化學(xué)符號(hào) | 含量 | 性質(zhì) |
| 鈦濺射靶材 | Ti | 2N6,4N,5N | 平面靶材，旋轉(zhuǎn)靶材 |
| 鎳濺射靶材 | Ni | 2N5, 3N | 平面靶材，旋轉(zhuǎn)靶材 |
| 鋯濺射靶材 | Zr | 2N5 | 平面靶材，旋轉(zhuǎn)靶材 |
| 鎢濺射靶材 | W | 3N5 | 平面靶材，旋轉(zhuǎn)靶材 |
| 鉬濺射靶材 | Mo | 3N5 | 平面靶材，旋轉(zhuǎn)靶材 |
| 鉭濺射靶材 | Ta | 3N5, 4N | 平面靶材，旋轉(zhuǎn)靶材 |
| 鈮濺射靶材 | Nb | 3N5, 4N | 平面靶材，旋轉(zhuǎn)靶材 |
| 銅濺射靶材 | Cu | 3N8 | 平面靶材，旋轉(zhuǎn)靶材 |
| 鋁濺射靶材 | Al | 4N | 平面靶材，旋轉(zhuǎn)靶材 |
| 鈦鋁合金濺射靶材 | Ti + Al | 2N7 | 平面靶材，旋轉(zhuǎn)靶材 |
| 鉬鈮合金濺射靶材 | Mo+Nb | 3N5 | 平面靶材，旋轉(zhuǎn)靶材 |
| 鎢鉬合金濺射靶材 | W+Mo | 3N5 | 平面靶材，旋轉(zhuǎn)靶材 |
| 鈮鎢合金濺射靶材 | Nb521 | 3N5 | 平面靶材，旋轉(zhuǎn)靶材 |
| 鈮鈦合金濺射靶材 | Nb+Ti | 2N5 | 平面靶材，旋轉(zhuǎn)靶材 |
| 鈮鋯合金濺射靶材 | Nb+Ti | 2N5 | 平面靶材，旋轉(zhuǎn)靶材 |
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